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微焦點(diǎn)X射線檢測(cè)是現(xiàn)代計(jì)技術(shù)和圖像處理技術(shù)一體的高科技產(chǎn)品
點(diǎn)擊次數(shù):3654 發(fā)布時(shí)間:2016-12-15
微焦點(diǎn)X射線檢測(cè)是集現(xiàn)代計(jì)算機(jī)軟件技術(shù)、精密機(jī)械制造技術(shù)、光學(xué)技術(shù)、電子技術(shù)、傳感器技術(shù)、無(wú)損檢測(cè)技術(shù)和圖像處理技術(shù)等于一體的高科技產(chǎn)品。它是進(jìn)行產(chǎn)品研究、失效分析、高可靠篩選、質(zhì)量評(píng)價(jià)、工藝改進(jìn)等工作的有效手段。
與常規(guī)X射線管相同,微焦點(diǎn)X射線管的陽(yáng)極也是用循環(huán)油或水來(lái)冷卻。與常規(guī)X射線機(jī)不同的是,用于無(wú)損檢測(cè)的微焦點(diǎn)X射線管是用真空泵來(lái)維持X射線管內(nèi)的真空度(約為10-7)。微焦點(diǎn)X射線管可以很方便的打開(kāi)(即開(kāi)放式或稱(chēng)為開(kāi)管),用來(lái)更換不同的靶材以產(chǎn)生不同的X射線頻譜;更換不同形狀及大小的X射線窗口;以及更換陽(yáng)極的類(lèi)型…如換上各種直徑和長(zhǎng)度的棒陽(yáng)極,以滿(mǎn)足不同檢測(cè)任務(wù)的需要。這些陽(yáng)極棒的長(zhǎng)度可達(dá)1500毫米,直徑可從18毫米一直小到4毫米。使用如此小的棒陽(yáng)極,我們可以用單壁內(nèi)透照方式,以的缺陷檢測(cè)靈敏度進(jìn)行射線檢測(cè)。
需要考慮的是X射線束視場(chǎng)直徑或稱(chēng)錐束角。進(jìn)行微焦點(diǎn)X射線檢測(cè),當(dāng)焦距很近時(shí),錐束角或視場(chǎng)范圍非常重要。例如,25°錐角的微焦點(diǎn)X射線機(jī)的曝光次數(shù)要小于15°錐角的微焦點(diǎn)X射線檢測(cè)機(jī)在檢測(cè)相同范圍時(shí)的曝光次數(shù)。
另一個(gè)需要考慮的是焦點(diǎn)到X射線管窗口外表面的距離,它決定了被檢樣品到焦點(diǎn)的zui小距離。這一參數(shù)的重要性在于它決定了一個(gè)微焦點(diǎn)系統(tǒng)可能達(dá)到的zui大放大倍數(shù)。由于防護(hù)設(shè)施空間的局限以及射線的衰減與距離的平方成反比(I/R2),我們無(wú)法隨意拉長(zhǎng)膠片或探測(cè)器到射線源的距離以增大放大倍數(shù)。
在進(jìn)行微焦點(diǎn)X射線檢測(cè)時(shí)有一個(gè)與常規(guī)X射線檢測(cè)很大的不同:我們通常不需要考慮圖像半影的大小,即通常不考慮幾何不清晰度的影響。原因是當(dāng)焦點(diǎn)尺寸足夠小時(shí),半影可以忽略不計(jì)。因此我們可以在X射線視場(chǎng)可接受的情況下,盡可能減小被檢樣品到焦點(diǎn)的距離。
與常規(guī)X射線管相同,微焦點(diǎn)X射線管的陽(yáng)極也是用循環(huán)油或水來(lái)冷卻。與常規(guī)X射線機(jī)不同的是,用于無(wú)損檢測(cè)的微焦點(diǎn)X射線管是用真空泵來(lái)維持X射線管內(nèi)的真空度(約為10-7)。微焦點(diǎn)X射線管可以很方便的打開(kāi)(即開(kāi)放式或稱(chēng)為開(kāi)管),用來(lái)更換不同的靶材以產(chǎn)生不同的X射線頻譜;更換不同形狀及大小的X射線窗口;以及更換陽(yáng)極的類(lèi)型…如換上各種直徑和長(zhǎng)度的棒陽(yáng)極,以滿(mǎn)足不同檢測(cè)任務(wù)的需要。這些陽(yáng)極棒的長(zhǎng)度可達(dá)1500毫米,直徑可從18毫米一直小到4毫米。使用如此小的棒陽(yáng)極,我們可以用單壁內(nèi)透照方式,以的缺陷檢測(cè)靈敏度進(jìn)行射線檢測(cè)。
需要考慮的是X射線束視場(chǎng)直徑或稱(chēng)錐束角。進(jìn)行微焦點(diǎn)X射線檢測(cè),當(dāng)焦距很近時(shí),錐束角或視場(chǎng)范圍非常重要。例如,25°錐角的微焦點(diǎn)X射線機(jī)的曝光次數(shù)要小于15°錐角的微焦點(diǎn)X射線檢測(cè)機(jī)在檢測(cè)相同范圍時(shí)的曝光次數(shù)。
另一個(gè)需要考慮的是焦點(diǎn)到X射線管窗口外表面的距離,它決定了被檢樣品到焦點(diǎn)的zui小距離。這一參數(shù)的重要性在于它決定了一個(gè)微焦點(diǎn)系統(tǒng)可能達(dá)到的zui大放大倍數(shù)。由于防護(hù)設(shè)施空間的局限以及射線的衰減與距離的平方成反比(I/R2),我們無(wú)法隨意拉長(zhǎng)膠片或探測(cè)器到射線源的距離以增大放大倍數(shù)。
在進(jìn)行微焦點(diǎn)X射線檢測(cè)時(shí)有一個(gè)與常規(guī)X射線檢測(cè)很大的不同:我們通常不需要考慮圖像半影的大小,即通常不考慮幾何不清晰度的影響。原因是當(dāng)焦點(diǎn)尺寸足夠小時(shí),半影可以忽略不計(jì)。因此我們可以在X射線視場(chǎng)可接受的情況下,盡可能減小被檢樣品到焦點(diǎn)的距離。